内江摄像模组指纹模组清洗剂 模组清洗剂剂 合明科技报价

伴随着互联网的发展，移动智能终端的普及，人们不再满足于过去简单的文字信息的交互模式，大众需要的是“有图有真相”，人们可以通过网络互相分享照片，视频通话。因此，网络摄像头、带有照相和摄像头功能的移动终端，收到了广大用户的热烈欢迎。
环保清洗工艺
高效、高规格、环保安全的水基清洗工艺是理想的选择，也是未来清洗业的发展方向和必经之路。

选择合适的清洗工艺、清洗设备、清洗剂进行配套成为工艺**非常重要的选项。如何让清洗剂与被清洗物兼容性考虑点的合适，能够在正常的工艺条件下，将残留物清洗干净，是我们首要解决的个问题，干净度可以由目测和离子度污染来检验，而达成我们终的清洗目的。

在摄像模组、指纹模组的制程中，清洗占到了很大比重，常见的清洗问题，主要有三点：
1. 如何将残留物能够清洗干净；
2. 在清洗干净的前提下，如何保证组件上的各类材料的兼容性，
3. 为了**COB工艺的焊接可靠性，能够达到COB绑定焊点的拉力测试和焊接技术要求，去除焊盘的氧化物，从而使得邦定焊点，能达到拉力以及焊接的要求，成为一个非常重要的细小环节。

COB前去除氧化层的要求，去除氧化层对COB的工艺影响度非常大，氧化膜的厚薄直接影响到COB焊接点的焊接可靠性和牢靠度，能够有效的去除非常非常薄的氧化层对焊接点的**度能够大幅度提升。在这项清洗中，可以与SMT残留后的清洗合二为一，也可以将其分开，先做SMT残留物的清洗，而后再做COB前工艺的清洗，这样能够各自有效的为工艺技术要求达成一个更为合理的配置条件。
COB绑定后，为**摄像头模组的高品质拍摄功效，需要对晶片表面残留的静电、污垢及金属离子、灰尘等污染物进行清洗，传统的溶剂型清洗工艺，所采用的清洗剂价格十分昂贵，清洗工艺复杂。相对于溶剂型清洗工艺，水基清洗工艺不仅大大的简化了清洗工艺，减低了清洗成本，其对静电、灰尘、金属离子等Particle清洗率可高达95%以上